快速杀菌大接触表面的氧化铜纳米晶须材料

发明专利有效专利

申请号：
CN202010577160.8
IPC分类号：B81B7/00;B81B7/04;B81C1/00;B82Y5/00;B82Y30/00;B82Y40/00
申请日期：
2020-06-23
申请人：
南开大学

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法律信息

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著录项信息

专利名称	快速杀菌大接触表面的氧化铜纳米晶须材料
申请号	CN202010577160.8	申请日期	2020-06-23
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-10-23	公开/公告号	CN111807314A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B81B7/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B8 微观结构技术；纳米技术 B81 微观结构技术〔7〕 B81B 微观结构的装置或系统，例如微观机械装置（压电元件、电致伸缩元件或磁致伸缩元件本身入H01L41/00）〔7〕 B81B7/00 微观结构系统〔7，2006.01〕	IPC分类号	B;8;1;B;7;/;0;0;;;B;8;1;B;7;/;0;4;;;B;8;1;C;1;/;0;0;;;B;8;2;Y;5;/;0;0;;;B;8;2;Y;3;0;/;0;0;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0查看分类表>
申请人	南开大学	申请人地址	天津市津南区海河教育园区同砚路38号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	南开大学	当前权利人	南开大学
发明人	匡登峰;李文爽;杨卓
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明提供一种附着在金属铜表面的氧化铜纳米晶须结构的制备方法：1)阴极电极的选择；2)于金属铜衬底的上制备氧化铜纳米晶须结构，电解液成分、含量的选择；3)于金属铜衬底的上制备氧化铜纳米晶须结构，氧化时间、电压的选择；4)利用步骤1)、2)、3)所选择的阴极电极、电解液和实验参数，制备氧化铜纳米晶须结构。本发明采用的制备方法操作简单、成本低廉、适合大面积制备；可以通过调节实验参数获得更大的比表面积；制备的氧化铜纳米晶须结构对于多种细菌具有较强的灭菌活性，可用于医院和各类环境中需要直接接触的表面如扶手、门把手等，减少细菌的传播和感染；氧化铜纳米晶须结构直接附着在金属铜上，不会对环境造成二次污染。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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