紫外线水处理方法及装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200810099972.5
IPC分类号：C02F1/32
申请日期：
2008-05-29
申请人：
株式会社日立制作所

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引证文献

著录项信息

专利名称	紫外线水处理方法及装置
申请号	CN200810099972.5	申请日期	2008-05-29
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2008-12-03	公开/公告号	CN101314488
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C02F1/32 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C02 水、废水、污水或污泥的处理 C02F 水、废水、污水或污泥的处理（通过在物质中产生化学变化使有害的化学物质无害或降低危害的方法入A62D 3/00；分离、沉淀箱或过滤设备入B01D；有关处理水、废水或污水生产装置的水运容器的特殊设备，例如用于制备淡水入B63J；为防止水的腐蚀用的添加物质入C23F；放射性废液的处理入G21F 9/04）〔3〕 C02F1/00 水、废水或污水的处理（C02F 3/00至C02F 9/00优先）〔3〕 C02F1/30 光照法〔3〕 C02F1/32 用紫外线的〔3〕	IPC分类号	C;0;2;F;1;/;3;2查看分类表>
申请人	株式会社日立制作所	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社日立制作所	当前权利人	株式会社日立制作所
发明人	山野井一郎;圆佛伊智朗;阴山晃治;日高政隆;隅仓岬;原直树
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	李贵亮

摘要

本发明提供一种紫外线水处理方法及装置，其装置构成简单，且装置设置面积小，紫外线不被杂质遮挡，从而可以进行充分的灭活。其具有：将气体加压溶解在被处理水中的加压溶解部(8)；从流入口(4)流入通过加压溶解而增加了溶存氧浓度的被处理水的富氧化槽(3)；从富氧化槽(3)流出被处理水的流出口(5)；通过流出流路(7)与该流出口(5)连接、且对被处理水进行紫外线处理的紫外线处理槽(6)；在富氧化槽(3)内利用由回旋流生成部生成回旋流来分离被处理水和微细气泡的气液分离部(13)；以及除去在气液分离部(13)与所述微细气泡一起被分离的杂质的杂质除去部(21)。

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