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一种单价阴离子选择性分离膜及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810997116.5
  • IPC分类号:B01J41/13B01D71/76B01D67/00
  • 申请日期:
    2018-08-29
  • 申请人:
    中国科学技术大学先进技术研究院
著录项信息
专利名称一种单价阴离子选择性分离膜及其制备方法
申请号CN201810997116.5申请日期2018-08-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-12-18公开/公告号CN109012761A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01J41/13IPC分类号B01J41/13;B01D71/76;B01D67/00查看分类表>
申请人中国科学技术大学先进技术研究院申请人地址
安徽省合肥市望江西路50*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学技术大学先进技术研究院当前权利人中国科学技术大学先进技术研究院
发明人徐铜文;葛亮;纪文根
代理机构合肥市长远专利代理事务所(普通合伙)代理人傅磊
摘要
本发明公开了一种单价阴离子选择性分离膜的制备方法,包括以下步骤:将卤甲基化聚合物溶解于有机溶剂中,形成卤甲基化聚合物溶液;向所述卤甲基化聚合物溶液中加入叔胺单体进行反应,得到季铵化聚合物;将所述季铵化聚合物溶解得到膜液,将膜液涂于基体上烘干,得到单价阴离子选择性分离膜;本发明还公开了一种单价阴离子选择性分离膜。本发明制备方法简单,可大规模产业化生产,其产品耐碱性优越,选择分离性能显著,且具有较高离子通量。

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