首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据，仅供参考，实际以国家知识产权局展示为准

清洗系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201110056074.3
IPC分类号：H01L21/00;B08B3/02;B08B3/04;F16K31/12
申请日期：
2011-03-09
申请人：
深圳深爱半导体股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	清洗系统
申请号	CN201110056074.3	申请日期	2011-03-09
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2011-09-14	公开/公告号	CN102184838A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/00 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;0;0;;;B;0;8;B;3;/;0;2;;;B;0;8;B;3;/;0;4;;;F;1;6;K;3;1;/;1;2查看分类表>
申请人	深圳深爱半导体股份有限公司	申请人地址	广东省深圳市龙岗区宝龙工业城宝龙七路3号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	深圳深爱半导体股份有限公司	当前权利人	深圳深爱半导体股份有限公司
发明人	王友旺;裴新;林盛浩;胡华;肖雁行;刘宝亮
代理机构	广州华进联合专利商标代理有限公司	代理人	吴平

摘要

本发明涉及一种清洗系统，包括冲溢水槽，所述冲溢水槽包括水槽壳体和用于冲水的喷头，所述水槽壳体包括相互连接的槽壁和槽底，所述水槽壳体上开设有进水口，所述槽底开设有排水口。本发明将硅片在冲溢水槽中同时进行喷水和溢水的清洗工序，并在槽底开设排水口，能获得较好的清洗效果，并节省了清洗时间和去离子水的用量。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供