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半导体互联结构及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011363864.1
  • IPC分类号:H01L21/768;H01L23/46;H01L23/538
  • 申请日期:
    2020-11-27
  • 申请人:
    浙江集迈科微电子有限公司
著录项信息
专利名称半导体互联结构及其制备方法
申请号CN202011363864.1申请日期2020-11-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2021-03-12公开/公告号CN112490187A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/768IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;7;6;8;;;H;0;1;L;2;3;/;4;6;;;H;0;1;L;2;3;/;5;3;8查看分类表>
申请人浙江集迈科微电子有限公司申请人地址
浙江省湖州市长兴县经济技术开发区陈王路与太湖路交叉口长兴国家大学科技园二分部北园8号厂房 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江集迈科微电子有限公司当前权利人浙江集迈科微电子有限公司
发明人冯光建;莫炯炯;郭西;高群;顾毛毛
代理机构上海光华专利事务所(普通合伙)代理人余明伟
摘要
本发明提供一种半导体互联结构及其制备方法,包括第一连接结构、第二连接结构、第三连接结构及终端结构;其中,第一连接结构及第二连接结构键合后进行电连接以构成微流道结构模块;微流道结构模块及第三连接结构键合后进行电连接以构成互联结构模块,互联结构模块显露微流道、第一金属连接层及第二金属连接层;互联结构模块嵌入终端结构中,微流道与终端结构的通孔相贯通,且第三连接结构与终端结构表面的焊盘电连接,第一金属连接层、第二金属连接层分别与终端结构的凹槽侧壁的焊盘电连接;本发明可有效减少占用面积,提高集成度,且可提高散热性能。

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