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一种具有长余辉发光性能的辐射制冷涂层及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110184247.3
  • IPC分类号:C09D5/22;C09D133/12;C09D129/14;C09D201/00;C09D127/18;C09D123/08;C09D127/16
  • 申请日期:
    2021-02-10
  • 申请人:
    华中科技大学
著录项信息
专利名称一种具有长余辉发光性能的辐射制冷涂层及其制备方法
申请号CN202110184247.3申请日期2021-02-10
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-06-15公开/公告号CN112961530A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C09D5/22IPC分类号C;0;9;D;5;/;2;2;;;C;0;9;D;1;3;3;/;1;2;;;C;0;9;D;1;2;9;/;1;4;;;C;0;9;D;2;0;1;/;0;0;;;C;0;9;D;1;2;7;/;1;8;;;C;0;9;D;1;2;3;/;0;8;;;C;0;9;D;1;2;7;/;1;6查看分类表>
申请人华中科技大学申请人地址
湖北省武汉市珞喻路1037号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华中科技大学当前权利人华中科技大学
发明人刘沛;赵晓阳;李晓琼;周东炜;段将将
代理机构武汉华之喻知识产权代理有限公司代理人彭翠;曹葆青
摘要
本发明属于新材料领域,更具体地,涉及一种具有长余辉发光性能的辐射制冷涂层及其制备方法。该涂层包括辐射制冷层,还包括设置于该辐射制冷层表面的长余辉发光层;辐射制冷层通过在中红外波段范围内的热辐射,以及同时在可见光波段范围内的光反射而实现制冷;长余辉发光层中含有长余辉发光材料,长余辉发光材料的吸收峰位于太阳光波段之间,发射峰位于可见光波段之间;使用时,长余辉发光层吸收太阳光能量,并将其转换为容易被所述辐射制冷层反射的可见光,从而减少了辐射制冷层吸收的能量,提高了辐射制冷层的辐射制冷功率;另一方面,经辐射制冷层反射的能量进一步被所述长余辉发光层吸收并发光,从而提高了所述长余辉发光层的发光效率。

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