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维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200780005788.3
  • IPC分类号:H01L21/027;G03F7/20
  • 申请日期:
    2007-05-23
  • 申请人:
    株式会社尼康
著录项信息
专利名称维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法
申请号CN200780005788.3申请日期2007-05-23
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-03-11公开/公告号CN101385124
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/027IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;0;2;7;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人株式会社尼康申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社尼康当前权利人株式会社尼康
发明人柴崎祐一;水谷刚之;一之濑刚;涉田慎
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人吴丽丽
摘要
维修方法,具备:将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30),将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。

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