全息照相记录材料及全息照相记录介质

发明专利无效专利

申请号：
CN200580015347.2
IPC分类号：G03H1/02;G03F7/004;G03F7/075;G11B7/0065
申请日期：
2005-04-25
申请人：
TDK株式会社

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著录项信息

专利名称	全息照相记录材料及全息照相记录介质
申请号	CN200580015347.2	申请日期	2005-04-25
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-04-25	公开/公告号	CN1954272
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03H1/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03H 全息摄影的工艺过程或设备（全息图，例如，用作普通的光学元件的点全息图入G02B 5/32；借助光学元件执行数学运算的模拟计算机入G06E 3/00；全息存储入G11B 7/0065、G11C 13/04）〔2〕 G03H1/00 应用光波、红外波或紫外波取得全息图或由此获得图像的全息摄影工艺过程或设备；及其特殊的零部件〔2〕 G03H1/02 零部件〔2〕	IPC分类号	G;0;3;H;1;/;0;2;;;G;0;3;F;7;/;0;0;4;;;G;0;3;F;7;/;0;7;5;;;G;1;1;B;7;/;0;0;6;5查看分类表>
申请人	TDK株式会社	申请人地址	日本国东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	TDK株式会社	当前权利人	TDK株式会社
发明人	水岛哲郎;塚越拓哉;三浦荣明;吉成次郎
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	李贵亮

摘要

提供一种全息照相记录材料及全息照相记录介质，该全息照相记录材料实现高的折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化及高多重性，适用于体积型全息照相记录。一种全息照相记录材料，其包含有机金属化合物和光聚合性化合物，其中，所述有机金属化合物至少具有至少2种金属、氧及芳香族基团、且含有2个芳香族基团直接键合在1个金属上的有机金属单元。所述至少2种金属中的1种是Si，Si以外的其他金属优选选自由Ti、Zr、Ge、Sn、Al及Zn构成的群组。所述有机金属单元优选2个芳香族基团直接键合在1个Si上。全息照相记录介质(11)，其具有全息照相记录材料层(21)。

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