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一种Si基缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201410108173.5
  • IPC分类号:G01M11/02;G01B11/06
  • 申请日期:
    2014-03-21
  • 申请人:
    浙江大学
著录项信息
专利名称一种Si基缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测方法
申请号CN201410108173.5申请日期2014-03-21
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2014-06-25公开/公告号CN103884494A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01M11/02IPC分类号G;0;1;M;1;1;/;0;2;;;G;0;1;B;1;1;/;0;6查看分类表>
申请人浙江大学申请人地址
浙江省杭州市西湖区浙大路38号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江大学当前权利人浙江大学
发明人刘涌;王慷慨;程波;宋晨路;韩高荣;杨振辉;王菊;苏婷
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人韩介梅
摘要
本发明涉及一种Si基缓冲层镀膜玻璃的光学参数检测方法,该缓冲层镀膜为SiCxOy,0<x<1,1<y<4,属于镀膜玻璃检测领域。该方法是在获得SiCxOy缓冲层镀膜玻璃椭圆偏振光谱的基础之上,引入三层膜层结构以及光学色散方程,通过迭代来回归实测椭偏光谱,最终获得SiCxOy镀膜玻璃的膜层结构及其每一层的光学参数,利用该方法实现镀膜玻璃光学性能的在线监控。本发明仅采用椭偏光学测试手段便可准确地获得薄膜的膜层结构及光学参数,对样品无损伤、测量耗时少、测试方法简便、对被测样品表面无特殊要求,十分适合于SiCxOy节能镀膜玻璃的性能检测及监控。

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