加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

形成硅氧化膜的成膜方法和装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710192997.5
  • IPC分类号:H01L21/316;C23C16/40
  • 申请日期:
    2007-09-28
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称形成硅氧化膜的成膜方法和装置
申请号CN200710192997.5申请日期2007-09-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2008-04-02公开/公告号CN101154589
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/316
?
IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;1;6;;;C;2;3;C;1;6;/;4;0查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人长谷部一秀;石田义弘;藤田武彦;小川淳;中岛滋
代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司代理人龙淳
摘要
本发明提供一种成膜方法和成膜装置,在能够选择地供给包括硅源气体的第一处理气体和包括氧化气体的第二处理气体的处理区域内,通过CVD在被处理基板上形成氧化膜。因此,多次重复下述循环,所述循环交替包括第一工序和第二工序。第一工序,供给第一处理气体,在被处理基板的表面上形成含硅的吸附层。第二工序,供给第二处理气体,对被处理基板的表面上的吸附层进行氧化。使用1价或2价的氨基硅烷气体作为硅源气体,相比于使用3价氨基硅烷气体作为硅源气体的情况,较低地设定循环中的处理温度。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供