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超结MOSFET终端结构

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201821941302.9
  • IPC分类号:H01L29/78;H01L29/06
  • 申请日期:
    2018-11-23
  • 申请人:
    深圳市谷峰电子有限公司;香港谷峰半导体有限公司
著录项信息
专利名称超结MOSFET终端结构
申请号CN201821941302.9申请日期2018-11-23
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/78
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;0;6查看分类表>
申请人深圳市谷峰电子有限公司;香港谷峰半导体有限公司申请人地址
广东省深圳市宝安区49区河东商业城华创达文化科技产业园9栋(F座)2-6楼501 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳市谷峰电子有限公司,香港谷峰半导体有限公司当前权利人深圳市谷峰电子有限公司,香港谷峰半导体有限公司
发明人陆怀谷
代理机构上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)代理人张宁展
摘要
一种超结MOSFET终端结构,包括:N型重掺杂衬底及形成于其上的N型轻掺杂外延层;所述N型轻掺杂外延层包括元胞区及终端区;所述元胞区中形成有至少一个晶体管单元,所述晶体管单元包括形成于所述N型轻掺杂外延层中的一对元胞区P柱;该一对元胞区P柱顶端分别连接有一P型体区;所述N型轻掺杂外延层表面形成有栅极结构;所述终端区中形成有至少一个终端区P柱;所述终端区P柱的宽度等于所述元胞区P柱宽度的一半,间距也是元胞区P柱宽度的一半,所述终端P形区的间距逐渐加大。本实用新型可以提升器件终端区耐压能力,改善高压超结MOSFET器件的多种特性;器件制作方法与现有工艺兼容,有多种实现方式,可以在现有工艺条件下进一步提升超结MOSFET终端结构的耐压能力。

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