处理基底的方法和装置

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专利名称	处理基底的方法和装置
申请号	CN00803802.3	申请日期	2000-01-19
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2002-03-13	公开/公告号	CN1339988
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	施蒂格哈马技术股份公司	申请人地址	德国施泰嫩费尔斯变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	辛古勒斯技术股份公司,聚斯微技术光掩膜设备有限责任两合公司	当前权利人	辛古勒斯技术股份公司,聚斯微技术光掩膜设备有限责任两合公司
发明人	P·德雷斯;K·阿皮希;P·克劳斯;J·塞克雷施;R·韦兴
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	苏娟;赵辛

摘要

为了达到在基底上有均匀的涂层，本发明涉及的装置和方法是用于对基底进行涂层的，其中基底固定在一个基底座(5)上，从而使得待涂基底表面(15)裸露着，并使基底随基底座旋转，还有一个封盖(20)可以固定在基底座上，该封盖与基底座共同形成一个封闭的用于基底的腔室。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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