在基板上形成凹凸结构的方法与模具制作的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201811340036.9
IPC分类号：G02B5/02;G02B5/04;G02B3/00;G02F1/13357;B29C59/02
申请日期：
2015-08-19
申请人：
友辉光电股份有限公司

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著录项信息

专利名称	在基板上形成凹凸结构的方法与模具制作的方法
申请号	CN201811340036.9	申请日期	2015-08-19
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-01-25	公开/公告号	CN109270610A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B5/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B5/00 除透镜外的光学元件（光波导入G02B 6/00；光学逻辑元件入G02F 3/00）〔4〕 G02B5/02 漫射元件；远焦元件	IPC分类号	G;0;2;B;5;/;0;2;;;G;0;2;B;5;/;0;4;;;G;0;2;B;3;/;0;0;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;5;7;;;B;2;9;C;5;9;/;0;2查看分类表>
申请人	友辉光电股份有限公司	申请人地址	中国台湾桃园县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	友辉光电股份有限公司	当前权利人	友辉光电股份有限公司
发明人	杨景安;邱威泰;潘汉聪
代理机构	北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司	代理人	孙皓晨;侯奇慧

摘要

本发明公开了一种在基板上形成凹凸结构的方法、一种模具制作的方法和一种形成光学膜的方法，其中，在基板上形成凹凸结构的方法包含以下步骤：通过控制系统使用坚硬工具刺入模具，以在模具的表面上依序刻划出多个沟槽，通过以下步骤刻划出多个沟槽：维持坚硬工具沿着相对于模具的表面的第一直线路径刻划第一沟槽；维持坚硬工具沿着相对于模具的表面的第二直线路径刻划第二沟槽，其中第二直线路径平行于第一直线路径，其中通过坚硬工具的刺入深度所控制的第二沟槽的横向宽度增加足以沿着第二沟槽的横向方向截断第一沟槽，使得第一沟槽被第二沟槽分离成多个凹槽；以及使用模具刻划后的表面压印在基板上的薄膜，以在基板上形成凹凸结构。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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