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一种二维表面粗糙度评定中建立轮廓基准线的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710117791.6
  • IPC分类号:G01B21/30
  • 申请日期:
    2007-06-25
  • 申请人:
    北京航空航天大学
著录项信息
专利名称一种二维表面粗糙度评定中建立轮廓基准线的方法
申请号CN200710117791.6申请日期2007-06-25
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-12-05公开/公告号CN101082484
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01B21/30IPC分类号G;0;1;B;2;1;/;3;0查看分类表>
申请人北京航空航天大学申请人地址
北京市海淀区学院路37号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京航空航天大学当前权利人北京航空航天大学
发明人王中宇;孟浩;付继华
代理机构北京科迪生专利代理有限责任公司代理人贾玉忠;卢纪
摘要
一种二维表面粗糙度评定中建立轮廓基准线的方法,其特点在于:利用灰色滚动模型,对一个取样长度内原始轮廓的采样数据进行灰色建模,获得轮廓的模型曲线,并将评定长度内各取样长度所对应的模型曲线进行综合得到一条光滑的轮廓曲线,将此曲线作为粗糙度评定的轮廓基准线。本发明的原始轮廓数据无需服从典型分配,评定过程不损失原始数据,在整个评定长度内获得灰色基准线,无需事先去除形状误差,灰色基准线在整个评定长度内光滑自然,更接近高斯基准线。

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