光掩模和曝光方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710085707.7
IPC分类号：G03F1/14;G03F1/00;G03F7/20
申请日期：
2007-03-06
申请人：
恩益禧电子股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光掩模和曝光方法
申请号	CN200710085707.7	申请日期	2007-03-06
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2007-09-12	公开/公告号	CN101034255
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/14 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/14 （转入G03F 1/00-G03F 1/86）	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;1;4;;;G;0;3;F;1;/;0;0;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	恩益禧电子股份有限公司	申请人地址	日本神奈川变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	恩益禧电子股份有限公司	当前权利人	恩益禧电子股份有限公司
发明人	松浦诚司
代理机构	中原信达知识产权代理有限责任公司	代理人	孙志湧;陆锦华

摘要

一种光掩模，其用于利用偶极子式照明光对半导体晶片进行曝光，并且包括主开口、第一辅助开口、第二辅助开口、第三辅助开口和第四辅助开口。设置每个辅助开口以使得其中心点其偏离第一直线和第二直线，其中第一直线平行于第一方向并经过主开口的中心点，以及第二直线平行于第二方向并经过主开口的中心点。此处，第一方向是光掩模的面内方向中的方向，该方向平行于偶极子式照明光的有效光源分布的排列方向。此外，第二方向是光掩模的面内方向中的方向，其与排列方向垂直。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供