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微纳光纤表面制作光栅的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510840618.3
  • IPC分类号:G02B6/02;G03F7/20
  • 申请日期:
    2015-11-27
  • 申请人:
    清华大学
著录项信息
专利名称微纳光纤表面制作光栅的方法
申请号CN201510840618.3申请日期2015-11-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-02-24公开/公告号CN105353459A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B6/02IPC分类号G;0;2;B;6;/;0;2;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人清华大学申请人地址
北京市海淀区北京-82信箱 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人清华大学当前权利人清华大学
发明人李宇航;徐忠扬;王力军
代理机构深圳市鼎言知识产权代理有限公司代理人王赛
摘要
本发明涉及一种微纳光纤表面制作光栅的方法,其中,该方法包括以下步骤:提供一微纳光纤;在该微纳光纤表面涂覆一层紫外光敏功能化膜;以及使用紫外光源对该紫外光敏功能化膜进行逐点曝光。本发明提出的制作方法利用涂覆在微纳光纤表面的功能化膜,借助于薄膜材料的光敏性,利用低功率的紫外光进行曝光制备光栅。该方法不会引起石英微纳光纤的损伤,保证了微纳光纤光栅的力学性能。而且,该方法与当前通用的光纤光栅制备方法和设备完全兼容。

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