量子点材料、量子点膜层的图案化方法及量子点发光器件

发明专利有效专利

申请号：
CN202011173939.X
IPC分类号：C09K11/02;C09K11/88;H01L51/56;H01L51/50
申请日期：
2020-10-28
申请人：
京东方科技集团股份有限公司

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著录项信息

专利名称	量子点材料、量子点膜层的图案化方法及量子点发光器件
申请号	CN202011173939.X	申请日期	2020-10-28
法律状态	实质审查	申报国家	暂无
公开/公告日	2021-02-02	公开/公告号	CN112300784A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09K11/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09K 不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用 C09K11/00 发光材料，例如电致发光材料、化学发光材料〔2〕 C09K11/02 以特殊材料作为黏合剂，用于粒子涂层或作悬浮介质〔2〕	IPC分类号	C;0;9;K;1;1;/;0;2;;;C;0;9;K;1;1;/;8;8;;;H;0;1;L;5;1;/;5;6;;;H;0;1;L;5;1;/;5;0查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司
发明人	王好伟
代理机构	北京同达信恒知识产权代理有限公司	代理人	姚楠

摘要

本发明公开了一种量子点材料、量子点膜层的图案化方法及量子点发光器件，在量子点表面修饰的光解基团在紫外光照射下发生光解生成极性改变基团，极性改变基团与光解基团的极性不同，在制作图案化的量子点膜层时，利用含有光解基团的量子点材料制作量子点薄膜，利用掩模板的遮挡采用紫外光照射量子点薄膜的相应区域，使相应区域内的光解基团光解为极性改变基团，从而改变相应区域内的量子点材料溶解性，随后采用可以溶解具有光解基团的量子点材料的溶剂清洗量子点薄膜，未被照射区域内的量子点材料被溶解去除，而相应区域被保留形成量子点膜层的图案。上述量子点膜层的图形化方法，可以避免使用碱性溶液对量子点进行显影而对量子点薄膜造成破坏。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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