在光刻装置中的反射镜应用顶层，用于光刻装置中的反射镜，包括这种反射镜的光刻装置以及器件制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200410095148.4
IPC分类号：--
申请日期：
2004-10-19
申请人：
ASML荷兰有限公司

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专利名称	在光刻装置中的反射镜应用顶层，用于光刻装置中的反射镜，包括这种反射镜的光刻装置以及器件制造方法
申请号	CN200410095148.4	申请日期	2004-10-19
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2005-04-27	公开/公告号	CN1609715
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰维尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	L·P·巴克;F·J·P·舒尔曼斯
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	肖春京;黄力行

摘要

在用于光刻装置的反射镜上预定金属顶层(8)的应用，用于光刻装置的反射镜，以及具有这样反射镜或者设置了具有这样应用的顶层的反射镜的光刻装置。该装置具有提供所需波长例如EUV辐射的源(SO)。该源(SO)产生不希望有的金属颗粒流，它们在反射镜上沉积而形成较小和较大的核。顶层(8)可以与该金属沉积物的核在预定温度范围内相互扩散。因而，形成了由该金属颗粒和该顶层(8)的金属构成的一个额外合金层(14)，它具有的反射率比仅仅包括该金属颗粒的层所具有的更高。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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