一种用于聚变反应堆的具有阻氚功能的第一壁及制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201911234873.8
IPC分类号：G21B1/13;C23C16/14;C23C16/34
申请日期：
2019-12-05
申请人：
核工业西南物理研究院;厦门钨业股份有限公司

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著录项信息

专利名称	一种用于聚变反应堆的具有阻氚功能的第一壁及制备方法
申请号	CN201911234873.8	申请日期	2019-12-05
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-06-08	公开/公告号	CN112927822A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G21B1/13 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G21 核物理；核工程 G21B 聚变反应堆（不可控聚变，其应用入G21J） G21B1/02 （转入G21B 1/00，G21B 3/00） G21B1/11 零件〔8〕 G21B1/13 第一壁；覆盖物；偏滤器〔8〕	IPC分类号	G;2;1;B;1;/;1;3;;;C;2;3;C;1;6;/;1;4;;;C;2;3;C;1;6;/;3;4查看分类表>
申请人	核工业西南物理研究院;厦门钨业股份有限公司	申请人地址	四川省成都市双流西南航空港黄荆路5号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	核工业西南物理研究院,厦门钨业股份有限公司	当前权利人	核工业西南物理研究院,厦门钨业股份有限公司
发明人	才来中;宋久鹏;曾晓晓;颜彬游;黄向玫
代理机构	核工业专利中心	代理人	高安娜

摘要

本发明属于聚变反应堆技术，具体涉及一种用于聚变反应堆的具有阻氚功能的第一壁及制备方法。第一壁包括面向等离子体材料、中间层和聚变反应堆结构材料，等离子体材料为化学气相沉积的钨涂层，聚变反应堆结构材料为低活化钢，中间层为氮化钛或类似的阻氚涂层。制备时，首先在基材上制备阻氚涂层，然后在阻氚涂层上制备钨涂层。用厚钨涂层取代钨块，满足第一壁工况要求和使用寿命要求且提高了第一壁结构的重量和经济性。显著降低等离子体运行过程中的感应电流及相应的电磁载荷，既能够满足聚变反应堆中第一壁的苛刻工况要求，又减小了第一壁部件中氚滞留量，从而提高了聚变反应堆氚循环效率，降低了氚增殖和氚供给的需求。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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