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一种电解金属箔的制备装置及制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202211127764.8
  • IPC分类号:C25D1/04
  • 申请日期:
    2022-09-16
  • 申请人:
    中国科学院金属研究所
著录项信息
专利名称一种电解金属箔的制备装置及制备方法
申请号CN202211127764.8申请日期2022-09-16
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2022-11-22公开/公告号CN115369456A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C25D1/04IPC分类号C;2;5;D;1;/;0;4查看分类表>
申请人中国科学院金属研究所申请人地址
辽宁省沈阳市沈河区文化路72号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院金属研究所当前权利人中国科学院金属研究所
发明人卢磊;程钊;陈祥成
代理机构北京煦润律师事务所代理人梁永芳
摘要
本发明关于一种电解金属箔的制备装置及制备方法,其中,所述电解金属箔的制备装置包括电解槽、阴极系统、阳极系统及绝缘隔板;其中,阴极系统包括旋转装置和阴极;阴极位于电解槽中;旋转装置与阴极连接,以在电解沉积过程中驱动阴极旋转;阳极系统包括阳极;其中,阳极置于电解槽中,且环绕阴极设置;绝缘隔板置于电解槽中,且位于阴极和阳极之间;绝缘隔板环绕阴极设置,阳极环绕绝缘隔板;绝缘隔板上开设有多个网孔,以通过调节网孔的孔径及分布,调控电解金属箔在宽度方向上的均匀性。本发明的电解金属箔制备装置能确保金属箔的均匀性,且其体积小、操作灵活、能够满足工业生产条件,为高性能电解金属箔制备技术的开发提供了一种实验装置。

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