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用于超长碳纳米管生长的高效复合催化剂薄膜的制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200810234755.2
  • IPC分类号:B01J23/78;B01J23/745;B01J35/02;C01B31/02;C23C14/35;C23C14/18;C23C14/54;C23C14/02
  • 申请日期:
    2008-10-29
  • 申请人:
    苏州纳米技术与纳米仿生研究所
著录项信息
专利名称用于超长碳纳米管生长的高效复合催化剂薄膜的制备方法
申请号CN200810234755.2申请日期2008-10-29
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2010-06-09公开/公告号CN101722000A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01J23/78IPC分类号B;0;1;J;2;3;/;7;8;;;B;0;1;J;2;3;/;7;4;5;;;B;0;1;J;3;5;/;0;2;;;C;0;1;B;3;1;/;0;2;;;C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;1;8;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4;;;C;2;3;C;1;4;/;0;2查看分类表>
申请人苏州纳米技术与纳米仿生研究所申请人地址
江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号A103 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人苏州捷迪纳米科技有限公司当前权利人苏州捷迪纳米科技有限公司
发明人李清文;陈同来;杨晓杰;勇振中
代理机构南京苏科专利代理有限责任公司代理人陈忠辉
摘要
本发明提供一种用于超长碳纳米管生长的高效复合催化剂薄膜的制备方法,先将硅衬底清洗后,并吹干,放入反应磁控溅射装置的反应室中,沉积前反应室背底绝对压力低于5×10-3Pa;采用Fe和Mg靶材作为溅射靶,或采用Fe和Al靶材作为溅射靶,以Ar气和O2气作为溅射气体,Ar气和O2气的流量比控制在1~10之间,待硅衬底温度加热至200~700℃后,溅射气体引入反应室至沉积室,整体压强达到1~10Pa后,开始溅射成膜,溅射功率控制在40~100W之间,靶材与衬底的垂直间距为50~100mm,控制沉积膜厚度在1~5nm;沉积完成后,随炉冷却至室温,切断气体源,取出成品,从而获得Mg-Fe-O或Al-Fe-O催化剂薄膜。可大面积制备高效催化剂薄膜,效率高、成本低,适用于碳纳米管阵列的批量制备。

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