三维存储器及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110588022.4
IPC分类号：H01L27/11575;H01L27/11582;H01L23/528;H01L21/768
申请日期：
2021-05-27
申请人：
长江存储科技有限责任公司

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引证文献

著录项信息

专利名称	三维存储器及其制备方法
申请号	CN202110588022.4	申请日期	2021-05-27
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-09-17	公开/公告号	CN113410252A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L27/11575 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L27/00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件（其零部件入H01L 23/00，H01L 29/00至H01L 51/00；由多个单个固态器件组成的组装件入H01L 25/00）〔2，8〕 H01L27/02 包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的〔2〕 H01L27/04 其衬底为半导体的〔2〕 H01L27/10 在重复结构中包括有多个独立组件的〔2〕 H01L27/105 包含场效应组件的〔5〕 H01L27/112 只读存储器结构的〔5〕 H01L27/115 电动编程只读存储器；其多步骤制造方法〔5，2006.01，2017.01〕 H01L27/11563 具有电荷俘获栅极绝缘层的，例如，MNOS，NROM〔2017.01〕 H01L27/11575 以核心区和外围电路区之间的边界区为特征的〔2017.01〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;7;/;1;1;5;7;5;;;H;0;1;L;2;7;/;1;1;5;8;2;;;H;0;1;L;2;3;/;5;2;8;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;8查看分类表>
申请人	长江存储科技有限责任公司	申请人地址	湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区未来三路88号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	长江存储科技有限责任公司	当前权利人	长江存储科技有限责任公司
发明人	陈赫;肖亮;伍术;黄磊;穆钰平
代理机构	广州三环专利商标代理有限公司	代理人	熊永强

摘要

本发明提供一种三维存储器及其制备方法。三维存储器包括：堆叠的第一绝缘层、源极层和堆叠结构，源极层位于第一绝缘层和堆叠结构之间，堆叠结构包括交替堆叠的导电层和层间绝缘层；若干穿过堆叠结构的沟道结构；连接层，位于第一绝缘层背离堆叠结构的一侧，并具有凸出部，凸出部穿过第一绝缘层与源极层电连接；若干接地结构，位于源极层背向堆叠结构的一侧，接地结构穿过第一绝缘层，且两端分别与源极层、连接层电连接；至少部分接地结构在最邻近源极层的导电层上的投影与导电层重叠。本发明的接地结构可以按需设置以增强排出源极层上电荷的能力，可以降低电荷击穿源极层的风险，提高了三维存储器的良率。

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