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半导体器件的形成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410233857.8
  • IPC分类号:H01L21/265;H01L21/336
  • 申请日期:
    2014-05-29
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
著录项信息
专利名称半导体器件的形成方法
申请号CN201410233857.8申请日期2014-05-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-02-17公开/公告号CN105336588A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/265IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;6;5;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
发明人张海洋;任佳
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人吴敏
摘要
本发明提供了一种半导体器件的形成方法,包括:在半导体衬底上形成包括多层结构的伪栅材料层;刻蚀所述伪栅材料层,使所述多层结构中的各层由下至上刻蚀速率依此递减,以形成由下至上宽度递增的伪栅结构。本发明中,基于伪栅结构由下至上宽度依此递增,因而形成的栅极开口由下至上开口依此递增,进而如在形成NMOS金属栅极工艺中,向栅极开口内填充金属材料以形成金属栅极时,即使金属材料的应力使得金属材料中位于下端导电宽度大于位于上端的宽度,基于所述栅极开口的结构可有效缓解最终形成的金属材料上端宽度和下端宽度的差异,从而改善NMOS金属栅极的结构形态以提高NMOS金属栅极的性能。

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