一种基于石墨烯的可饱和吸收镜及制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201310312487.2
IPC分类号：H01S3/11;G02F1/35;B82Y20/00
申请日期：
2013-07-23
申请人：
上海交通大学

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专利名称	一种基于石墨烯的可饱和吸收镜及制造方法
申请号	CN201310312487.2	申请日期	2013-07-23
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2013-10-23	公开/公告号	CN103368058A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01S3/11 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01S 利用受激发射的器件 H01S3/00 激光器，即利用受激发射对红外光、可见光或紫外线进行产生、放大、调制、解调或变频的器件（半导体激光器入H01S 5/00） H01S3/10 控制辐射的强度、频率、相位、极化或方向，例如开关、选通、调制或解调（模式锁定入H01S 3/098）〔2〕 H01S3/11 其中光谐振器的品质因数迅速改变的，即巨脉冲技术的	IPC分类号	H;0;1;S;3;/;1;1;;;G;0;2;F;1;/;3;5;;;B;8;2;Y;2;0;/;0;0查看分类表>
申请人	上海交通大学	申请人地址	上海市闵行区东川路800号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海交通大学	当前权利人	上海交通大学
发明人	义理林;郑燃;李伟雄;胡卫生
代理机构	上海旭诚知识产权代理有限公司	代理人	郑立

摘要

本发明公开了一种基于石墨烯的可饱和吸收镜及制造方法，在大面积基底上生长石墨烯，然后在石墨烯表面镀二氧化硅保护层，再切割成小片，将平整的光纤端面与小片上镀有二氧化硅的一面平整对接，最后将光纤与小片固定并封装在一起，制造出一种新型的基于石墨烯的可饱和吸收镜。石墨烯作为饱和吸收体，具有饱和强度低、超快速的恢复时间、调制深度可调、与波长无关等优点。制备过程对石墨烯无任何破坏，保持了完整的化学结构，镀二氧化硅保护层防止了石墨烯破损与氧化，同时起到了减少杂质反射的作用，封装后不受外界环境影响，结合这种吸收镜所特有的简单易行的结构优势，本发明提供的制造方法简单高效、成本低廉，能实现大规模产业化。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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