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一种薄膜晶体管及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201510087070.X
  • IPC分类号:H01L29/786;H01L21/336
  • 申请日期:
    2015-02-25
  • 申请人:
    友达光电股份有限公司
著录项信息
专利名称一种薄膜晶体管及其制造方法
申请号CN201510087070.X申请日期2015-02-25
法律状态撤回申报国家暂无
公开/公告日2015-05-27公开/公告号CN104659106A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/786
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;6;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人友达光电股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人友达光电股份有限公司当前权利人友达光电股份有限公司
发明人黄郁清;李育誌;陈威佑;张家豪
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司代理人徐金国
摘要
本发明提供一种薄膜晶体管及其制造方法。薄膜晶体管包括:栅极;栅极介电层,覆盖于栅极上方;源极,设置于栅极介电层上方,源极包括第一源极和第二源极,其中第二源极位于第一源极的上方;漏极,设置于栅极介电层上方,且和源极相对设置,而漏极包括第一漏极和第二漏极,其中第二漏极位于第一漏极的上方;通道结构层,设置于第一源极和第二源极之间,与第一漏极和第二漏极之间,并连接源极和漏极;第一欧姆接触层,设置于第一源极和通道结构层之间,与第一漏极和通道结构层之间;以及第二欧姆接触层,设置于第二源极和通道结构层之间,与第二漏极和通道结构层之间。采用本发明,可使每一像素上的薄膜晶体管装置的通道宽度缩减一半。

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