用于气相沉积设备的输送器组件

发明专利无效专利

申请号：
CN201010604182.5
IPC分类号：C23C14/56;C23C14/24
申请日期：
2010-12-14
申请人：
初星太阳能公司

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著录项信息

专利名称	用于气相沉积设备的输送器组件
申请号	CN201010604182.5	申请日期	2010-12-14
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2011-06-15	公开/公告号	CN102094181A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/56 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/56 连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;5;6;;;C;2;3;C;1;4;/;2;4查看分类表>
申请人	初星太阳能公司	申请人地址	美国科罗拉多州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	初星太阳能公司	当前权利人	初星太阳能公司
发明人	M·W·里德;R·W·布莱克
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	严志军;谭祐祥

摘要

本发明提供了一种用于气相沉积设备的输送器组件(100)，其包括限定了封闭的内部容积的外壳(104)。输送器(102)在外壳内以无端环路径进行驱动。外壳具有顶部构件(110)，其在输送器的上输送分支中限定了敞开的沉积区域(112)。输送器包括多个互连的板条(130)，且各个板条均具有相应的平坦、平整的外表面(132)和横向边缘轮廓(135，136)，使得在输送器的上输送分支中，板条的外表面位于共同的水平面中，并为通过气相沉积设备输送的衬底限定了不间断的平坦的支承面。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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