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一种亚微米多层金属电极的制作方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201110364080.5
  • IPC分类号:H01L21/28
  • 申请日期:
    2011-11-15
  • 申请人:
    北京时代民芯科技有限公司;中国航天科技集团公司第九研究院第七七二研究所
著录项信息
专利名称一种亚微米多层金属电极的制作方法
申请号CN201110364080.5申请日期2011-11-15
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-06-27公开/公告号CN102522325A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/28IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;8查看分类表>
申请人北京时代民芯科技有限公司;中国航天科技集团公司第九研究院第七七二研究所申请人地址
北京市丰台区东高地四营门北路2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京时代民芯科技有限公司,中国航天科技集团公司第九研究院第七七二研究所当前权利人北京时代民芯科技有限公司,中国航天科技集团公司第九研究院第七七二研究所
发明人杨小兵;王传敏;刘军;孙金池;姚全斌
代理机构中国航天科技专利中心代理人安丽
摘要
一种亚微米多层金属电极的制作方法,包括下列步骤(1)采用蒸发或者溅射工艺形成Ti-W-Ti-Au四层金属电镀子层;(2)光刻出电极图形,然后电镀Au金属层,电镀完毕后去胶;(3)采用三步刻蚀Ti-W-Ti-Au四层金属电镀子层,第一步采用以惰性气体为主的离子束工艺将电镀子层最上面的Au层刻蚀掉,第二步以F基气体或者Cl基气体为主的等离子体工艺将Ti-W-Ti层大部分金属层刻蚀掉,第三步以CF4气体为主要刻蚀气体,采用等离子工艺进行过刻蚀,将残留的金属残渣刻蚀干净;(4)刻蚀后的电极再进行无氧气氛中退火,以修复电极刻蚀损伤。采用本发明的方法能够使得电极耐高温焊接,并能够减少刻蚀过程对器件的损伤。

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