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用于二氧化硅和氮化硅层的蚀刻的可印刷介质

发明专利无效专利

申请号：
CN200580046197.1
IPC分类号：C03C15/00
申请日期：
2005-12-19
申请人：
默克专利股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于二氧化硅和氮化硅层的蚀刻的可印刷介质
申请号	CN200580046197.1	申请日期	2005-12-19
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2008-01-02	公开/公告号	CN101098833
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C03C15/00 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C03 玻璃；矿棉或渣棉 C03C 玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合 C03C15/00 纤维和丝之外的蚀刻法玻璃表面处理	IPC分类号	C;0;3;C;1;5;/;0;0查看分类表>
申请人	默克专利股份有限公司	申请人地址	德国达姆施塔特变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	默克专利股份有限公司	当前权利人	默克专利股份有限公司
发明人	W·斯托库姆;A·屈贝尔贝克;S·克莱因
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	刘明海

摘要

本发明涉及在太阳能电池生产中用于表面蚀刻的具有非牛顿流动性能的新颖可印刷蚀刻介质及其用途。本发明特别涉及对应的含粒子的组合物，通过该组合物可以蚀刻高度选择性的细结构而不损害或侵蚀相邻表面。

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