用于光刻装置的对准系统及对准方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201010137228.7
IPC分类号：G03F9/00;G03F7/20
申请日期：
2010-03-31
申请人：
上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司

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著录项信息

专利名称	用于光刻装置的对准系统及对准方法
申请号	CN201010137228.7	申请日期	2010-03-31
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2011-10-05	公开/公告号	CN102207695A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F9/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F9/00 原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地（G03F 7/22优先；照相蒙片的制备入G03F 1/00；在复制用的照相印片设备中的入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;9;/;0;0;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司	申请人地址	上海市张东路1525号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海微电子装备有限公司,上海微高精密机械工程有限公司	当前权利人	上海微电子装备有限公司,上海微高精密机械工程有限公司
发明人	胡明辉;李运锋
代理机构	上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	屈蘅;李时云

摘要

本发明提出一种用于光刻装置的对准系统及对准方法，用以实现工件台与掩模或工件台与掩模台的对准。用于光刻装置的对准系统包括光源模块、物镜模块、探测模块、对准标记以及参考标记。其中，对准标记设置于掩模或掩模台，包括用于粗对准的第一方形标记以及用于精对准的第一光栅标记。参考标记设置于工件台，包括用于粗对准的第二方形标记以及用于精对准的第二光栅标记。该对准系统的对准标记在小扫描范围内拥有极高的对比度，这样不仅极大的提高了扫描信号的信噪比，而且还简化了扫描信号的后续处理，提高了效率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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