具有插入层的发光二极管外延片及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110701312.5
IPC分类号：H01L33/06;H01L33/22;H01L33/32;H01L33/00
申请日期：
2021-06-23
申请人：
华灿光电（浙江）有限公司

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专利名称	具有插入层的发光二极管外延片及其制备方法
申请号	CN202110701312.5	申请日期	2021-06-23
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2021-11-12	公开/公告号	CN113644172A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L33/06 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L33/00 至少有一个电位跃变势垒或表面势垒的专门适用于光发射的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或设备；这些半导体器件的零部件（H01L 51/00优先；由在一个公共衬底中或其上形成有多个半导体组件并包括具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒，专门适用于光发射的器件入H01L 27/15；半导体激光器入H01S 5/00）〔2，8，2010.01〕 H01L33/02 以半导体为特征的〔2010.01〕 H01L33/04 具有一个量子效应结构或超晶格，例如隧道结〔2010.01〕 H01L33/06 在发光区中，例如量子限制结构或隧道势垒〔2010.01〕	IPC分类号	H;0;1;L;3;3;/;0;6;;;H;0;1;L;3;3;/;2;2;;;H;0;1;L;3;3;/;3;2;;;H;0;1;L;3;3;/;0;0查看分类表>
申请人	华灿光电（浙江）有限公司	申请人地址	浙江省金华市义乌市苏溪镇苏福路233号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	华灿光电（浙江）有限公司	当前权利人	华灿光电（浙江）有限公司
发明人	王群;王江波;葛永晖;董彬忠;李鹏
代理机构	北京三高永信知识产权代理有限责任公司	代理人	吕耀萍

摘要

本发明公开了具有插入层的发光二极管外延片及其制备方法，属于发光二极管制作领域。n型GaN层与多量子阱层之间增加插入层，多量子阱层包括多个交替层叠的InGaN阱层与GaN垒层。插入层则包括依次层叠的InGaN子层与GaN子层，降低插入层所需的生长成本。InGaN子层靠近GaN子层的表面具有多个相互间隔的纳米尺寸的凹坑，释放应力。GaN子层填平凹坑，保证在GaN子层上生长的多量子阱层的质量较好，另一方面使部分缺陷湮灭在凹坑处，在凹坑处进一步释放应力，减小延伸至多量子阱层内的缺陷，最终有效提高多量子阱层的晶体质量。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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