方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪

发明专利无效专利

申请号：
CN200510025359.5
IPC分类号：G01B5/28
申请日期：
2005-04-22
申请人：
上海申菲激光光学系统有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪
申请号	CN200510025359.5	申请日期	2005-04-22
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2006-10-25	公开/公告号	CN1851387
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01B5/28 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01B 长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量 G01B5/00 以采用机械方法为特征的计量设备（包括在大组G01B 3/00中的各式量具本身入G01B 3/00）〔2〕 G01B5/28 用于计量表面的粗糙度或不规则性	IPC分类号	G;0;1;B;5;/;2;8查看分类表>
申请人	上海申菲激光光学系统有限公司	申请人地址	上海市松江九亭小寅变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海申菲激光光学系统有限公司	当前权利人	上海申菲激光光学系统有限公司
发明人	周德林
代理机构	上海智信专利代理有限公司	代理人	薛琦

摘要

本发明涉及一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪，包括：一个三角形工作台面(3)，在所述的三角形工作台面(3)上分别安置三个圆座(1)，每个圆座(1)上安置一个可转动的小钢球(11)；在所述的三角形工作台面(3)的边缘三角位置，分别均布一组小滚珠轴承连固定座(2)；一个圆盘(6)，所述的圆盘(6)与小滚珠轴承连固定座(2)滚动连接，并在中部分别有安置方形玻璃基片(5)的槽座(61)；在所述的三角形工作台面(3)的中心位置孔下方安置了一台千分表(4)；克服了各类规格方形玻璃基片由于玻璃自重而产生的变形影响测量精度的不利因素，使测量精度大大提高：达到0.001mm；十几秒种即可从千分表中读出数值。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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