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半导体封装体及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010723278.7
  • IPC分类号:H01L23/552;H01L23/31;H01L21/50;H01L21/56
  • 申请日期:
    2020-07-24
  • 申请人:
    铠侠股份有限公司
著录项信息
专利名称半导体封装体及其制造方法
申请号CN202010723278.7申请日期2020-07-24
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-08-06公开/公告号CN113224037A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/552IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;5;5;2;;;H;0;1;L;2;3;/;3;1;;;H;0;1;L;2;1;/;5;0;;;H;0;1;L;2;1;/;5;6查看分类表>
申请人铠侠股份有限公司申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人铠侠股份有限公司当前权利人铠侠股份有限公司
发明人泽登昭仁
代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司代理人张世俊
摘要
本发明涉及一种半导体封装体及其制造方法。本实施方式的半导体封装体具备衬底。半导体芯片设置于衬底上。树脂层在衬底上被覆半导体芯片。金属膜被覆树脂层的正面及侧面。金属膜是具备第1~第4金属层的积层膜。第1金属层被覆树脂层。第2金属层包含与第1金属层不同的材料。第3金属层包含构成第2金属层的第1金属材料与不同于该第1金属材料的第2金属材料的合金。第4金属层被覆第2或第3金属层。

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