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投影校正系统及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010116072.4
  • IPC分类号:H04N5/74;H04N9/31
  • 申请日期:
    2010-02-11
  • 申请人:
    财团法人工业技术研究院
著录项信息
专利名称投影校正系统及方法
申请号CN201010116072.4申请日期2010-02-11
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-08-17公开/公告号CN102158673A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H04N5/74IPC分类号H;0;4;N;5;/;7;4;;;H;0;4;N;9;/;3;1查看分类表>
申请人财团法人工业技术研究院申请人地址
中国台湾新竹县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人财团法人工业技术研究院当前权利人财团法人工业技术研究院
发明人吴泰锋;陈庆昌;王郁仁;周明杰
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司代理人梁挥;祁建国
摘要
一种投影校正方法,包括下列步骤。投射一原始影像在一目标物上,该原始影像为一投影影像。从目标物上检索一投影区域影像,投影区域影像包括投影影像。从投影区域影像中得到对应于投影影像的一投影影像轮廓,且对投影影像轮廓进行运算得到一水平倾角及一垂直倾角。依据水平倾角及垂直倾角预扭曲原始影像以得到一校正影像,并投射校正影像在目标物上。

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