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一种修复钯膜组件缺陷的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110408018.1
  • IPC分类号:C01B3/56;B01D65/10
  • 申请日期:
    2011-12-09
  • 申请人:
    丹阳奥恩能源科技发展有限公司
著录项信息
专利名称一种修复钯膜组件缺陷的方法
申请号CN201110408018.1申请日期2011-12-09
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2012-06-13公开/公告号CN102491271A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01B3/56IPC分类号C;0;1;B;3;/;5;6;;;B;0;1;D;6;5;/;1;0查看分类表>
申请人丹阳奥恩能源科技发展有限公司申请人地址
江苏省镇江市丹阳市开发区双仪路留学生创业园内 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人丹阳奥恩能源科技发展有限公司当前权利人丹阳奥恩能源科技发展有限公司
发明人解东来;王芳
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明公开了一种修复钯膜组件缺陷的方法,利用高温金属扩散的原理,将金属补丁与钯膜缺陷处紧紧密封在一起,使金属补丁紧贴于有缺陷的钯基膜表面。所使用的补丁可以是透氢的钯或者其合金膜,也可以是不透氢的非钯金属薄片。本发明所提供的修补钯膜缺陷的方法简单、快速、易操作、设备简单,特别适合于钯膜组件上裂痕等缺陷的修补。

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