光掩模及其制造方法、转印方法及平板显示器的制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201310238262.7
IPC分类号：G03F1/34;G03F1/56;G03F1/42;G03F7/00;G03F9/00;G02F1/1333
申请日期：
2013-06-17
申请人：
HOYA株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	光掩模及其制造方法、转印方法及平板显示器的制造方法
申请号	CN201310238262.7	申请日期	2013-06-17
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2014-01-15	公开/公告号	CN103513505A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/34 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/26 相移掩膜〔PSM〕；PSM空白；其制备〔2012.01〕 G03F1/34 相边缘PSM，例如无铬PSM；其制备〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;3;4;;;G;0;3;F;1;/;5;6;;;G;0;3;F;1;/;4;2;;;G;0;3;F;7;/;0;0;;;G;0;3;F;9;/;0;0;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;3查看分类表>
申请人	HOYA株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	HOYA株式会社	当前权利人	HOYA株式会社
发明人	山口昇
代理机构	北京三友知识产权代理有限公司	代理人	李辉;黄纶伟

摘要

本发明提供光掩模及其制造方法、转印方法及平板显示器的制造方法，在需要多次描绘的光掩模中准确地进行各区域的对准，能够抑制光刻工序的实施次数。所述制造方法具有以下工序：准备光掩模坯体，该光掩模坯体是在透明基板上层叠曝光光透过率彼此不同且由彼此具有蚀刻选择性的材料构成的下层膜与上层膜，进而形成第1抗蚀剂膜而得到的；对第1抗蚀剂膜进行第1描绘，形成用于形成上层膜图案和划定下层膜图案的区域的暂定图案的第1抗蚀剂图案；对上层膜进行蚀刻的第1蚀刻工序；在整面上形成第2抗蚀剂膜；对第2抗蚀剂膜进行第2描绘，形成用于形成下层膜图案的第2抗蚀剂图案；对下层膜进行蚀刻的第2蚀刻工序；蚀刻去除暂定图案的第3蚀刻工序。

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