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控制半导体器件的图案均匀性的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010569753.6
  • IPC分类号:H01L21/02;G03F7/20;G06F17/50
  • 申请日期:
    2010-12-02
  • 申请人:
    海力士半导体有限公司
著录项信息
专利名称控制半导体器件的图案均匀性的方法
申请号CN201010569753.6申请日期2010-12-02
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-11-09公开/公告号CN102237265A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/02IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;0;2;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;6;F;1;7;/;5;0查看分类表>
申请人海力士半导体有限公司申请人地址
韩国京畿道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人海力士半导体有限公司当前权利人海力士半导体有限公司
发明人韩德宣;金美惠
代理机构北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙)代理人郭放;黄启行
摘要
本发明涉及一种控制在半导体器件中形成的图案的均匀性的方法,所述方法包括以下步骤:在控制最外部轮廓的尺寸的同时,获得关于各个情况下的仿真轮廓;和将与仿真轮廓中所包括的图案的3σ值满足前述条件的外部图案的尺寸确定作为外部目标图案的尺寸。

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