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低轮廓获取电极组件及离子植入机

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201680066016.X
  • IPC分类号:H01J37/317;H01J37/08
  • 申请日期:
    2016-09-23
  • 申请人:
    瓦里安半导体设备公司
著录项信息
专利名称低轮廓获取电极组件及离子植入机
申请号CN201680066016.X申请日期2016-09-23
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2018-07-31公开/公告号CN108352285A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/317IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;1;7;;;H;0;1;J;3;7;/;0;8查看分类表>
申请人瓦里安半导体设备公司申请人地址
美国麻萨诸塞州格洛斯特郡都利路35号(邮编01930) 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人瓦里安半导体设备公司当前权利人瓦里安半导体设备公司
发明人杰弗里·A·柏吉斯
代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司代理人马爽;臧建明
摘要
一种低轮廓获取电极组件及离子植入机,所述低轮廓获取电极组件包括:绝缘体,具有主体;多个间隔开的安装支脚,从所述主体的第一面延伸;多个间隔开的安装支脚,从所述主体的与所述第一面相对的第二面延伸,从所述第二面延伸的所述多个间隔开的安装支脚在与所述主体的轴线正交的方向相对于从所述第一面延伸的所述多个间隔开的安装支脚偏置,所述低轮廓获取电极组件还包括:接地电极,紧固至从所述第一面延伸的所述安装支脚;以及抑制电极,紧固至从所述第二面延伸的所述安装支脚,其中所述接地电极与所述抑制电极之间的放电路径距离大于所述接地电极与所述抑制电极之间的焦距。

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