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具有低粘合剂残余的膜

发明专利无效专利

申请号：
CN200610080144.8
IPC分类号：G03F1/14;C09J9/00
申请日期：
2006-05-09
申请人：
三井化学株式会社

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	具有低粘合剂残余的膜
申请号	CN200610080144.8	申请日期	2006-05-09
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2006-11-15	公开/公告号	CN1862378
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/14 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/14 （转入G03F 1/00-G03F 1/86）	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;1;4;;;C;0;9;J;9;/;0;0查看分类表>
申请人	三井化学株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三井化学株式会社	当前权利人	三井化学株式会社
发明人	春林克明;藤田稔;近藤正浩;才本芳久
代理机构	北京银龙知识产权代理有限公司	代理人	李宓

摘要

本发明提供一种膜，其中在聚乙烯对苯二酸酯薄膜粘附到膜的掩模粘附表面后，在23℃下沿180度的方向剥离厚度为125μm非表面处理聚乙烯对苯二酸酯薄膜时，剥离强度为大约0.004N/mm～0.10N/mm。

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