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用于形成喷液元件基质的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510084876.X
  • IPC分类号:B41J2/16;B41J2/14
  • 申请日期:
    2005-07-18
  • 申请人:
    佳能株式会社
著录项信息
专利名称用于形成喷液元件基质的方法
申请号CN200510084876.X申请日期2005-07-18
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日2006-01-18公开/公告号CN1721189
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B41J2/16IPC分类号B;4;1;J;2;/;1;6;;;B;4;1;J;2;/;1;4查看分类表>
申请人佳能株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佳能株式会社当前权利人佳能株式会社
发明人小室博和
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人范莉
摘要
一种用于形成一元件基质的方法,该元件基质包括基质、穿透基质的供墨口以及用于向通过供墨口引入的墨供给喷射能量的能量供给装置,所述方法包括:在所述基质上形成所述能量供给装置的步骤;然后削薄所述基质的步骤;以及然后在所述基质中形成所述供墨口的供墨口形成步骤。

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