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在光刻设备中的原位颗粒移除的设备和方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980013338.1
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2019-02-04
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
著录项信息
专利名称在光刻设备中的原位颗粒移除的设备和方法
申请号CN201980013338.1申请日期2019-02-04
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-10-13公开/公告号CN111771166A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司,ASML控股股份有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司,ASML控股股份有限公司
发明人理查德·J·布鲁尔斯;R·P·奥尔布赖特;P·C·科奇斯珀格;V·A·佩雷斯-福尔肯
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人张启程
摘要
描述了用于减少静电卡盘(300)附近的颗粒的方法和系统,其中清洁掩模版或衬底(320)被固定到该卡盘,清洁掩模版或衬底的表面部分地缺少导电材料,使得来自卡盘的电场可以穿过以到达邻近该衬底的体积,从而将该体积中的颗粒(360)牵引至衬底的表面。施加到卡盘的电压可以具有交替的极性,以增强颗粒到表面的吸引。

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