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金属电容

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010091136.3
  • IPC分类号:H01L49/02
  • 申请日期:
    2020-02-13
  • 申请人:
    旺宏电子股份有限公司
著录项信息
专利名称金属电容
申请号CN202010091136.3申请日期2020-02-13
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-08-13公开/公告号CN113258001A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L49/02IPC分类号H;0;1;L;4;9;/;0;2查看分类表>
申请人旺宏电子股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹科学工业园区力行路16号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人旺宏电子股份有限公司当前权利人旺宏电子股份有限公司
发明人陈重光;李家庆;黄建福;胡家铭
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人任岩
摘要
本发明公开了一种金属电容。金属电容包含设置于衬底上方的第一金属层与第二金属层。第一金属层包含第一电极片与第二电极片。第二金属层包含第三电极片与第四电极片。第一平面电容形成于第一电极片与第二电极片之间;第二平面电容形成于第三电极片与该第四电极片之间。第四电极片的至少一部分位于第一电极片的上方,且第一纵向电容形成于第一电极片与第四电极片之间。第三电极片的至少一部分位于第二电极片的上方,且第二纵向电容形成于第二电极片与第三电极片之间。

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