加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种水性蚀刻光阻剂脱气泡装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201920155115.6
  • IPC分类号:B01D19/02
  • 申请日期:
    2019-01-29
  • 申请人:
    广州森川合成材料有限公司
著录项信息
专利名称一种水性蚀刻光阻剂脱气泡装置
申请号CN201920155115.6申请日期2019-01-29
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01D19/02IPC分类号B;0;1;D;1;9;/;0;2查看分类表>
申请人广州森川合成材料有限公司申请人地址
广东省广州市南沙区榄核镇稳盈街4号301 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人广州森川合成材料有限公司当前权利人广州森川合成材料有限公司
发明人钟水英;何伟富;何伟豪
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型涉及半导体器件制造技术领域,且公开了一种水性蚀刻光阻剂脱气泡装置,包括顶端开口的除泡罐和真空泵,除泡罐的侧壁顶端固定连通有气管,气管远离除泡罐的一端与真空泵的进气端固定连通,除泡罐的外侧壁顶端螺纹连接有罐盖,除泡罐的顶部开设有环形的安装槽,安装槽的内部嵌设有与安装槽相匹配的橡胶圈,罐盖的内顶部开设有环形的容纳槽,橡胶圈的顶端延伸至容纳槽的内部,橡胶圈的顶部与容纳槽的内顶部相抵,且橡胶圈的内侧壁和外侧壁分别与容纳槽的两个内侧壁相抵,罐盖的顶部固定连通有进料管,除泡罐的底部固定连通有出料管。本实用新型能够有效地对光阻剂进行脱气泡,且有效地避免了光阻剂在倒出时会洒落的问题。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供