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光刻胶回收系统

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110382142.5
  • IPC分类号:G03F7/26
  • 申请日期:
    2011-11-25
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司
著录项信息
专利名称光刻胶回收系统
申请号CN201110382142.5申请日期2011-11-25
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2012-10-03公开/公告号CN102707585A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/26IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;6查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司
发明人齐永莲;赵吉生;薛建设
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司代理人许静;姜精斌
摘要
本发明提供一种光刻胶回收系统,属于彩膜基板和阵列基板制造领域。光刻胶回收系统包括基板底盘及其上盖、位于基板底盘上的基板旋转盘、位于基板旋转盘上用于放置基板的基板卡槽以及用于接收基板旋转盘旋转过程中从基板上甩出的光刻胶的甩胶储槽,还包括:与所述甩胶储槽相连接的过滤装置,通过设置有阀门的管道与所述甩胶储槽连通,用于对从所述甩胶储槽流出并通过所述管道流入的光刻胶进行过滤;清洗装置,用于对所述甩胶储槽进行清洗;控制装置,用于在光刻胶回收阶段控制所述阀门导通,并控制所述清洗装置停止清洗甩胶储槽;在清洗阶段控制所述阀门关闭,并控制所述清洗装置清洗甩胶储槽。本发明实施例能够对光刻工艺中甩出的光刻胶进行回收。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供