镁合金表面辉光等离子沉积耐蚀合金层方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710019820.5
IPC分类号：C23C14/38;C23C14/54;C23C14/14
申请日期：
2007-01-30
申请人：
南京航空航天大学

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专利名称	镁合金表面辉光等离子沉积耐蚀合金层方法
申请号	CN200710019820.5	申请日期	2007-01-30
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-08-01	公开/公告号	CN101008078
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/38 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/36 二极溅射（C23C 14/35优先）〔4，5〕 C23C14/38 直流辉光放电法〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;8;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4;;;C;2;3;C;1;4;/;1;4查看分类表>
申请人	南京航空航天大学	申请人地址	江苏省南京市御道街29号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	南京航空航天大学	当前权利人	南京航空航天大学
发明人	徐江;徐重;陶杰;张平则;刘子利;陈哲源;朱文慧;骆心怡
代理机构	南京苏高专利商标事务所（普通合伙）	代理人	阙如生

摘要

本发明提供了一种镁合金表面辉光等离子沉积耐蚀合金层方法，其中合金层结构为非晶表层加纳米晶次表层，适用于镁合金表面制备耐蚀改性层制备，属于先进轻合金表面耐蚀防护技术领域。其特征在于：采用由靶材电极与工件电极组成的双阴极结构辉光溅射装置及方法，其中靶材：熔点在600-1800℃的纯金属或其合金材料，靶材电压：300-650V，工件电压：300-450V，靶材与工件间距：30-40mm，Ar气气压：20-45Pa。该方法生成的沉积层具有优越的耐腐蚀性能。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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