磁性石榴石单晶膜形成用衬底、光学元件及其制备方法

发明专利无效专利

申请号：
CN02816498.9
IPC分类号：--
申请日期：
2002-06-21
申请人：
TDK株式会社

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	磁性石榴石单晶膜形成用衬底、光学元件及其制备方法
申请号	CN02816498.9	申请日期	2002-06-21
法律状态	放弃专利权	申报国家	中国
公开/公告日	2004-11-17	公开/公告号	CN1547627
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	TDK株式会社	申请人地址	日本东京都中央区变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	TDK株式会社	当前权利人	TDK株式会社
发明人	坂下幸雄;川崎克己;大井户敦;守越广树;内田清志;山泽和人
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	钟守期;庞立志

摘要

本发明涉及为液相外延生长磁性石榴石单晶膜的磁性石榴石单晶膜形成用衬底，和使用该衬底进行晶体生长的单晶膜的制备方法和通过该制备方法制备的单晶膜以及光学元件。该衬底(2)具有对为进行液相外延生长所使用的熔融溶液不稳定的石榴石系单晶形成的衬底基板(10)，和在前述衬底基板(10)上形成的对前述熔融溶液稳定的石榴石系单晶薄膜形成的缓冲层(11)。使用该衬底(2)可以制备优质的磁性石榴石单晶膜(12)。该磁性石榴石单晶膜(12)可以作为用于光学隔离器、光学循环器、光磁传感器等法拉第元件等的光学元件使用。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供