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溅射靶以及用于制造溅射靶的粉体

发明专利有效专利

申请号：
CN201980060775.9
IPC分类号：C23C14/34;B22F1/00;C22C1/05;C22C5/04;G11B5/738;G11B5/84
申请日期：
2019-05-16
申请人：
JX金属株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	溅射靶以及用于制造溅射靶的粉体
申请号	CN201980060775.9	申请日期	2019-05-16
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-04-30	公开/公告号	CN112739846A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;B;2;2;F;1;/;0;0;;;C;2;2;C;1;/;0;5;;;C;2;2;C;5;/;0;4;;;G;1;1;B;5;/;7;3;8;;;G;1;1;B;5;/;8;4查看分类表>
申请人	JX金属株式会社	申请人地址	日本东京都港区虎门2丁目10番4号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	JX金属株式会社	当前权利人	JX金属株式会社
发明人	岩渊靖幸;佐藤敦;下宿彰;清水正义
代理机构	北京伟思知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	聂宁乐;胡瑾

摘要

本发明提供一种含Ru以及硼的溅射靶。该溅射靶的主要成分是Ru，含有熔点比B2O3高且含硼的复合氧化物。

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