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抗蚀剂显像液中碳酸盐的除去方法、除去装置、及抗蚀剂显像液的浓度控制方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200610005718.5
IPC分类号：G03F7/26;G03F7/32;H01L21/027
申请日期：
2006-01-06
申请人：
长濑产业株式会社;长濑CMS科学技术株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	抗蚀剂显像液中碳酸盐的除去方法、除去装置、及抗蚀剂显像液的浓度控制方法
申请号	CN200610005718.5	申请日期	2006-01-06
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2006-07-12	公开/公告号	CN1800990
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/26 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/26 感光材料的处理及其设备（G03F 7/12至G03F 7/24优先）〔3，5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;6;;;G;0;3;F;7;/;3;2;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	长濑产业株式会社;长濑CMS科学技术株式会社	申请人地址	日本大阪变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	长濑产业株式会社,长濑CMS科学技术株式会社	当前权利人	长濑产业株式会社,长濑CMS科学技术株式会社
发明人	梅枝孝道;北川悌也
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	王健

摘要

本发明目的在于提供从含TMAH及碳酸盐的抗蚀剂显像液中除去碳酸盐的方法、装置及抗蚀剂显像液的浓度控制方法。本发明所述的抗蚀剂显像液中碳酸盐的除去方法包括利用NF膜过滤含TMAH及碳酸盐的抗蚀剂显像液的过滤工序。

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