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一种GaN-HEMT器件大信号模型的建模方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110205653.3
  • IPC分类号:G06F30/20;G01D21/02;G06F119/08
  • 申请日期:
    2021-02-24
  • 申请人:
    中国科学院微电子研究所
著录项信息
专利名称一种GaN-HEMT器件大信号模型的建模方法
申请号CN202110205653.3申请日期2021-02-24
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-06-04公开/公告号CN112906226A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G06F30/20IPC分类号G;0;6;F;3;0;/;2;0;;;G;0;1;D;2;1;/;0;2;;;G;0;6;F;1;1;9;/;0;8查看分类表>
申请人中国科学院微电子研究所申请人地址
北京市朝阳区北土城西路3号中国科学院微电子研究所 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院微电子研究所当前权利人中国科学院微电子研究所
发明人程奎;罗卫军;张荣华;韦春;夏志颖;闫伟;来龙坤;蒋鑫;陈晓娟
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人刘猛
摘要
本发明所提供的GaN‑HEMT器件大信号模型的建模方法,包括:对GaN‑HEMT器件进行高低温环境下的脉冲电流‑电压测试,获得不同温度下的电流‑电压数据;采用改进后的漏极电流公式搭建GaN‑HEMT器件的漏电模型,改进后的漏极电流公式包含与环境温度相关的参数;将不同温度下的电流‑电压数据与漏电模型进行拟合,确定漏电模型的参数。由于改进后的漏极电流公式包含与环境温度相关的参数,因此,可以建立与包含环境温度相关的参数的大信号模型,从而可以获得在高低温环境下准确预测GaN‑HEMT器件性能的大信号模型,进而提高了GaN‑HEMT器件仿真模型的准确性。

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