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光电导薄膜和使用此薄膜的光生伏打器件

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN99102941.0
  • IPC分类号:H01L31/02;H01L31/04;H01L31/075;H01L21/205
  • 申请日期:
    1999-02-15
  • 申请人:
    佳能株式会社
著录项信息
专利名称光电导薄膜和使用此薄膜的光生伏打器件
申请号CN99102941.0申请日期1999-02-15
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日1999-09-15公开/公告号CN1228617
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/02IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;0;2;;;H;0;1;L;3;1;/;0;4;;;H;0;1;L;3;1;/;0;7;5;;;H;0;1;L;2;1;/;2;0;5查看分类表>
申请人佳能株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佳能株式会社当前权利人佳能株式会社
发明人狩谷俊光
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人王永刚
摘要
一种形成在基片上且至少含有氢和硅晶粒的光电导薄膜,其中:硅晶粒为柱状,用恒定光电流方法测量时,光电导薄膜的Urbach能Eu为60meV或以下,归于Si-H键的氢含量C1原子数%、和归于Si-H2键的氢含量C2原子数%有C1/C2≥0.8且3≤C1+C2≤8原子数%的关系,晶粒的较长方向与基片表面法线方向形成的角度不大于8°,从光电导薄膜的X光衍射峰中的硅(220)峰计算得到的硅晶粒平均粒径为20nm到200nm,所述光电导薄膜含非晶硅,硅晶粒与整个薄膜的体积比R≥0.5。该薄膜作为光电导薄膜,没有光退化,有很好的光电导率,提供的光生伏打器件有很好的温度特性和长期稳定性。

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