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一种提高沟槽MOS结构肖特基二极管性能的工艺方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110366686.6
  • IPC分类号:H01L21/329;H01L21/28;H01L29/872
  • 申请日期:
    2021-04-06
  • 申请人:
    江苏新顺微电子股份有限公司
著录项信息
专利名称一种提高沟槽MOS结构肖特基二极管性能的工艺方法
申请号CN202110366686.6申请日期2021-04-06
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-10-19公开/公告号CN113517193A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/329IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;2;9;;;H;0;1;L;2;1;/;2;8;;;H;0;1;L;2;9;/;8;7;2查看分类表>
申请人江苏新顺微电子股份有限公司申请人地址
江苏省无锡市江阴市长山大道78号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人江苏新顺微电子股份有限公司当前权利人江苏新顺微电子股份有限公司
发明人陈晓伦;许柏松;韩笑;孟军;朱涛
代理机构上海申浩律师事务所代理人龚敏
摘要
本发明涉及半导体领域。一种提高沟槽MOS结构肖特基二极管性能的工艺方法,步骤一,取完成沟槽刻蚀的硅基片,湿法工艺去除硅基片正面硅表面二氧化硅层及其他介质层;步骤二,采用LPCVD工艺淀积生长一薄层掺氧多晶硅层;步骤三,采用LPCVD工艺淀积一薄层氮化硅层;步骤四,采用LPCVD工艺淀积一层无掺杂多晶硅层;步骤五,采用炉管热氧化工艺,对淀积的多晶硅层进行氧化,反应形成二氧化硅;步骤六,采用CVD工艺淀积原位掺杂的多晶硅,最终获得了器件所需的硅沟槽MOS结构。本发明提高了介质层的厚度均匀性,降低了介质层生长过程中产生的缺陷,降低了介质层内电荷密度,器件性能得到提升。

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